市场表现 - 光刻机概念股午后发力走高，华融化学20%涨停续创新高，容大感光涨近18%，兴业股份、国风新材涨停，南大光电涨超8% [1] 行业现状与国产化空间 - 光刻机国产化替代空间广阔，2022年光刻机国产化率不足1%，是半导体设备中国产化程度最低的环节 [1] 技术进展与里程碑 - 2016年上海微电子90nm ArF光刻机SSA600系列实现出货，成为国产光刻机商业化的重要标志 [1] - 2020年华卓精科自主研发的双工件台实现量产应用，打破ASML在工件台上的长期垄断 [1] - 2025年哈尔滨工业大学成功研制13.5nm波长EUV光源，中科院上海光机所实现全固态深紫外光源突破，使国内芯片工艺验证能力推进至3nm理论极限 [1] 发展前景 - 众多成果标志着国产光刻机在整机与核心零部件环节的迭代正在加速 [1] - 未来在政策支持与市场应用拉动下，国产产业链整体能力有望持续提升 [1]