点击 关注我们 光刻机作为所有半导体制造设备中难度最高、最难突破的一环，占晶圆生产设备总市场的24%。从UV到 EUV，光刻机经历了五代发展和进化，每次光源的改进都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。根据 前瞻研究院数据，光刻机由光源、曝光和双工作台三大核心系统组成，一台EUV光刻机内含有超10万个精密 零部件，全球供应商超过5000家。其中光学系统最重要的子系统之一，约占整体光刻机成本的30%。 全球光刻机千亿人民币市场规模且保持高速增长 市场规模方面，2011年光刻机市场规模257亿美元。根据Market Intelligence，预计2022-2028年全球光刻机市场 规模CAGR有望达到6%。出货量方面，ASML、Nikon、Canon三大光刻机供应商占据了99%以上市场份额，出 货量稳步提升，2019-2023年CAGR达16.75%。按供应商分类，ASML出货量增长最为明显，近五年光刻机出货 量CAGR达18.33%。平均售价方面，EUV光刻机单价增长明显，ASP由2018年的1.0亿欧元提升至2023年的1.7 亿欧元，其余价格较为稳定。 ASML、Nikon、Canon三大光刻机供应商占据 ...