我们正步入一个技术迭代愈发迅速的时代。芯片制程从14nm走到7nm、5nm、3nm，再到摩尔 定律边缘的1nm节点。在半导体行业迅猛发展的今天，每一块芯片的诞生都离不开精密的制造 工艺和严苛的品质控制。无论是晶圆表面的金属杂质，还是洁净室空气中的有机污染物，任何 微小的偏差都可能导致芯片性能的下降甚至失效。 过去，传统方法如X射线荧光（XRF）、总反射XRF（TXRF）等手段在一定程度上可以满足对金属 杂质的检测需求，但当杂质浓度降到ppt（万亿分之一）甚至ppq（千亿分之一）级别，这些方法就 开始"力不从心"了。 与此同时，伴随EUV光刻、先进封装等新工艺的发展，非金属杂质（如硅、磷、硫等）以及空气中 的有机污染物（AMC）也成为影响芯片良率的"隐形杀手"。 在这样的背景下， 分析仪器领域的先锋——珀金埃尔默（PerkinElmer） ，凭借其深厚的技术底蕴 和敏锐的行业洞察， 正成为半导体检测的重要支撑力量。 从无机光谱质谱到有机色谱质谱，再到分 子光谱与材料表征，珀金埃尔默的产品线覆盖了半导体检测的方方面面。 八十年技术沉淀， 造就分析仪器的领跑者和革新者 翻开珀金埃尔默的历史，就像翻开了一部现代分析技 ...