报告行业投资评级 无相关内容 报告的核心观点 1. 涂胶显影设备是半导体制造工艺中的关键设备,国产化需求旺盛,市场发展潜力巨大 [1] 2. 受益于市场景气度复苏影响,晶圆厂资本开支增加,产能逐步扩张,为涂胶显影设备等半导体设备厂商带来良好机遇 [2][3] 3. 涂胶显影设备行业集中度较高,全球市场主要被日系等厂商垄断,国内前道涂胶显影设备国产化率仍较低,与国际先进水平存在差距 [5][6] 4. 国内部分厂商如芯源微在涂胶显影设备领域已取得突破,实现了28nm及以上节点设备的国产替代 [8][9] 5. 随着国家支持力度加大,以及国内企业持续投入,我国涂胶显影设备的国产化进程有望不断加快,未来发展前景较为广阔 [9] 根据目录分别总结 什么是涂胶显影设备 1. 涂胶显影设备是半导体制造光刻工艺中的关键设备,主要用于光刻胶涂布和显影过程,性能直接影响光刻工序细微曝光图案的形成和显影工艺的图形质量 [1] 2. 根据不同应用需求,可划分为前道和后道涂胶显影设备 [1] 涂胶显影设备市场需求持续攀升 1. 受益于市场景气度复苏,晶圆厂资本开支增加,产能逐步扩张,为涂胶显影设备等半导体设备厂商带来良好机遇 [2][3] 2. 预计2025年全球前道涂胶显影设备市场空间将达45亿美元,中国大陆市场空间将达18亿美元 [4] 涂胶显影设备行业集中度较高,国产化需求迫在眉睫 1. 当前涂胶显影设备行业集中度较高,全球主要制造商包括日本东京电子、日本迪恩士、德国苏斯微等 [5] 2. 前道涂胶显影设备市场长期被日本东京电子垄断,我国目前尚未掌握28nm及以下节点ArFi浸没式涂胶显影设备技术 [6] 3. 国内部分厂商如芯源微在涂胶显影设备领域已取得突破,实现了28nm及以上节点设备的国产替代 [8][9] 4. 整体来看,当前国内前道涂胶显影设备国产化率仍较低,与国际先进水平存在差距,但随着国家支持力度加大,未来发展前景较为广阔 [9]