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Samsung Electronics and Nova Jointly awarded the Vladimir Ukraintsev Award at the SPIE Advanced Lithography conference
NVMINova .(NVMI) Prnewswire·2025-03-18 20:00

文章核心观点 - 公司与三星合作的论文获计量学合作奖,展示了公司在先进芯片制造计量学的创新能力 [1][2] 获奖信息 - 公司与三星共同撰写的论文获SPIE 2024先进光刻与图案化会议“计量学合作”弗拉基米尔·乌克朗采夫奖,于2025年会议开幕日颁奖 [1][2] - 论文是双方持续合作探索先进芯片制造计量创新方法的成果,展示了公司新技术在先进过程控制中的应用 [2] 论文成果 - 硫系化合物Ovonic阈值开关层厚度是选择器专用存储器过程控制的关键参数,论文展示了利用光谱干涉、拉曼光谱和机器学习算法的混合计量方法,实现对硫系化合物层的精确监测和控制 [3] - 论文详述了先进技术如何应用于精确厚度监测,确保选择器专用存储器设备的最佳性能和可靠性 [3] 公司表态 - 公司首席技术官表示荣幸与三星获此殊荣,合作展示了公司利用独特创新技术促进先进半导体设备过程控制的能力,公司将继续与领先客户合作扩展解决方案、增强协同效应,应对先进节点制造挑战 [4] 公司介绍 - 公司是半导体制造先进过程控制材料、光学和化学计量解决方案的领先创新者和关键供应商,提供先进高性能计量解决方案,贯穿半导体制造生命周期实现有效过程控制 [5] - 公司产品组合结合高精度硬件和前沿软件,为客户提供开发和生产先进半导体设备的深入见解,帮助客户提高性能、提升产品良率、加速上市时间,在全球各地为半导体制造商提供服务 [5] - 公司在纳斯达克和TASE上市,纳斯达克股票代码为NVMI [6] 公司联系方式 - 首席财务官Guy Kizner,电话+972 - 73 - 229 - 5760,邮箱[email protected],公司网站https://www.novami.com/ [9] - 投资者关系联系人Miri Segal MS - IR LLC,邮箱[email protected],公司标志链接https://mma.prnewswire.com/media/1446151/3817156/Nova_Logo.jpg [9]