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Lam Research Donates Leading-Edge Etch System to Accelerate Nanofabrication R&D at UC Berkeley
LRCXLam Research(LRCX) Prnewswire·2025-04-16 21:00

文章核心观点 - 公司向加州大学伯克利分校捐赠先进蚀刻系统以加速纳米制造研发,推动下一代芯片技术发展 [1][2] 捐赠情况 - 公司捐赠创新多腔半导体蚀刻系统给加州大学伯克利分校的Marvell纳米制造实验室,助力下一代芯片技术研发 [1] - 该系统结合Kiyo®导体和金属蚀刻、Flex®介电蚀刻以及Syndion® GP深反应离子蚀刻腔室,能蚀刻制造下一代半导体设备所需材料,推动特种技术应用 [3] 合作意义 - 产学研合作对推动新一代特种技术的纳米制造进步至关重要,捐赠让研究人员能使用行业验证的半导体制造系统加速创新 [3] - 公司与伯克利的持续合作包括资助工程学院基础研究,蚀刻技术将助力集成光学解决方案新制造工艺探索 [4] 各方评价 - 公司首席技术与可持续发展官认为捐赠能让研究人员加速创新和开发新工艺 [3] - 伯克利工程学院院长感谢公司多年贡献,期待先进蚀刻系统为下一代芯片带来新原子级创新 [5] 公司介绍 - 公司是全球半导体行业创新晶圆制造设备和服务供应商,其技术用于制造几乎所有先进芯片 [6] 学校介绍 - 伯克利工程学院教育和研究卓越,在美国工程学院中排名前三,是顶尖公立工程学院 [7]