技术突破 - 杜邦公司13名现任和前任科学家及工程师因在半导体光刻技术领域的创新项目获得2025年美国化学学会"化学英雄"奖 [1] - 获奖技术为嵌入式阻挡层技术，该技术显著提升了193纳米浸没式光刻的芯片制造工艺 [2] - 该技术通过将阻挡功能直接集成到光刻胶中，简化了光刻流程，降低了材料使用量和能耗 [4] 技术应用 - 含嵌入式阻挡层技术的配方已在全球半导体行业的光刻工艺中广泛应用 [3] - 该技术支持人工智能、先进计算和消费电子等领域的技术进步 [3] - 技术解决了早期浸没式光刻中的缺陷率和工艺稳定性等关键挑战 [4] 行业影响 - 嵌入式阻挡层技术标志着半导体行业的关键突破，扩展了193浸没式光刻的能力 [5] - 该技术十多年前首次实施，至今仍被广泛使用 [5] - 技术有助于提高大批量芯片制造的运营效率和可持续性 [4] 公司背景 - 杜邦是全球创新领导者，提供基于技术的材料和解决方案 [6] - 公司专注于电子、交通、建筑、水处理、医疗保健和工人安全等关键市场 [6] - 公司员工运用多样化科学和专业知识帮助客户推进最佳创意并提供关键创新 [6]