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广州开发区、黄埔区:支持光刻、清洗、刻蚀、离子注入、沉积等设备、关键零部件及工具国产化替代
快讯·2025-06-17 14:29

政策支持 - 广州开发区、黄埔区发布《支持集成电路产业高质量发展若干政策措施》,鼓励发展光掩模、电子气体、光刻胶、抛光材料、高纯靶材等高端半导体和传感器制造材料 [1] - 政策支持光刻、清洗、刻蚀、离子注入、沉积等设备、关键零部件及工具国产化替代 [1] - 积极引进国内重点基础材料企业,稳步提升关键基础材料供应能力 [1] 资金扶持 - 对于新引进的固定资产投资1000万元以上的产业化项目,且政策有效期内实现小升规的企业,按照不超过其设备和工器具投资额的15%分档给予扶持 [1] - 最高扶持金额可达1000万元 [1]