公司产品发布 - 公司于9月8日推出了专为工程衬底设计的新型高电流离子注入机GSD Ovation ES [1] - 新产品支持氢离子和氦离子的顶级高电流注入能力 适用于晶圆切割等工程衬底应用 [2] - 该系统是GSD Ovation系列的改进版本 该系列是批量离子注入生产率的行业基准 [2] 新产品性能与优势 - GSD Ovation ES系统具有卓越的灵活性和成本效益 并为碳化硅、钽酸锂和铌酸锂等多种衬底类型提供成熟的生产级晶圆处理能力 [4] - 该系统还具备晶圆冷却能力和优异的束流功率 [4] 公司业务与行业地位 - 公司专门从事半导体制造用离子注入系统的设计和制造 为半导体行业提供高生产率解决方案 [5] - 公司被列为14家值得投资的上市小型半导体公司之一 [1]