智通财经APP获悉，华创证券发布研报称，光刻机是半导体设备中最复杂、价值量最高的环节，也是国 产化进程中亟待攻克的高地。2024年中国已成为全球最大光刻机采购市场，贡献ASML营收41%。未来 在政策、需求与验证三重驱动下，国产光刻机有望进入商业化加速阶段。国产整机与核心子系统加速突 破，进入从验证向量产转化的关键阶段，建议关注具备核心环节能力的本土厂商茂莱光学 (688502.SH)、汇成真空(301392.SZ)等。 华创证券主要观点如下： 光刻机是半导体设备中最复杂、价值量最高的环节，也是国产化进程中亟待攻克的高地 光刻作为晶圆制造的核心工序，承担电路图形转移的关键使命，单机价值量居半导体设备首位。根据观 研天下数据中心，2024年光刻机以约24%的市场份额在半导体设备中占比最高。 光刻机演进遵循瑞利判据(CD=k·λ/NA)，通过光源波长缩短、数值孔径提升及工艺因子优化，延续摩尔 定律推动工艺节点突破。1)汞灯到DUV再到EUV，波长逐步缩短;2)浸没式技术突破折射率瓶颈，使NA 提升至1.35;3)工艺因子优化，离轴照明、OPC、相移掩模、多重曝光等系统性优化手段扩展工艺窗口;4) 曝光方式由接触式 ...