产品发布 - 公司推出新一代微光学材料产品PixMicro™，这是一个可微压印配方的新系列，旨在赋能高性能传感器、微透镜阵列、波导、3D打印光学元件、共封装光学(CPO)和衍射光学元件(DOE) [1] - 新产品线具备无与伦比的透明度、超低雾度，并在无溶剂配方中折射率高达1.90，使设备制造商能够实现更清晰的视觉效果、更小的外形尺寸以及更高的效率和更低的成本 [2] - 新产品结合了高折射率、光学清晰度、机械性能和加工灵活性，为制造商提供了定义下一代沉浸式技术设备所需的工具 [3] 产品性能与优势 - PixMicro™高折射率微压印产品兼容玻璃和塑料基材，以及商用压模和行业标准制造工艺 [3] - 产品性能优势包括：可实现30 µm–50 µm厚结构的高良率微压印、粘度可调、与现有制造工艺和基材兼容 [6] - 产品具备行业领先的清晰度：在可见光波长范围内透明度超过95%，超低雾度（<0.1%）以实现水晶般清晰的性能 [6] 市场定位与机遇 - 光学传感器、XR设备和IT OLED预计将成为未来几年增长最快的消费和工业技术市场之一 [4] - 新产品PixMicro与公司现有PixNIL®和PixJet®产品线相结合，使公司处于下一代显示创新浪潮的中心 [4] - 光学传感器、3D打印精密光学和显示应用对极致性能的要求正在快速增长，需要材料创新来交付客户所需的下一代产品 [3]