公司中标信息 - 上海微电子装备（集团）股份有限公司近日中标步进扫描式光刻机项目，中标金额约1.09亿元 [1] - 项目招标方为科学技术部 [1] 公司背景与股权结构 - 公司成立于2002年，经营范围包含半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务等 [1] - 公司由上海电气控股集团有限公司、张江高科全资子公司上海张江浩成创业投资有限公司等共同持股 [1] 中标产品技术细节 - 中标的步进扫描光刻是一种混合光刻技术，结合了扫描投影光刻和分步重复光刻的优势 [1] - 该技术通过动态扫描方式同步移动掩膜版和晶圆，标准曝光尺寸为26 mm×33 mm，可增大曝光场并一次曝光多个芯片 [1] - 技术具备整个扫描过程的实时聚焦调节能力，适用于0.25μm以下的制造工艺，尤其在0.18μm节点及更先进工艺中广泛应用 [1]