应用材料公司取得提高选择性外延生长速率专利
公司技术进展 - 应用材料公司在中国取得一项名为“提高选择性外延生长的生长速率的方法”的专利，授权公告号为CN114551229B [1] - 该专利的申请日期为2016年3月，表明公司在该技术领域进行了长期研发投入 [1] 行业技术动态 - 专利涉及半导体制造中的“选择性外延生长”工艺，该工艺是先进芯片制造的关键技术之一 [1] - 专利核心目标在于“提高生长速率”，这可能有助于提升半导体生产效率和产能 [1]
公司技术进展 - 应用材料公司在中国取得一项名为“提高选择性外延生长的生长速率的方法”的专利，授权公告号为CN114551229B [1] - 该专利的申请日期为2016年3月，表明公司在该技术领域进行了长期研发投入 [1] 行业技术动态 - 专利涉及半导体制造中的“选择性外延生长”工艺，该工艺是先进芯片制造的关键技术之一 [1] - 专利核心目标在于“提高生长速率”，这可能有助于提升半导体生产效率和产能 [1]