华虹半导体取得金属硅化物形成方法专利
金融界·2026-02-03 19:55

公司专利与技术进展 - 华虹半导体(无锡)有限公司取得一项名为“金属硅化物的形成方法”的专利,授权公告号为CN115527846B,申请日期为2022年10月 [1] - 该专利涉及半导体制造工艺中的金属硅化物形成技术,属于集成电路制造领域的关键工艺环节 [1] 公司基本情况 - 华虹半导体(无锡)有限公司成立于2017年,位于江苏省无锡市 [1] - 公司主营业务属于计算机、通信和其他电子设备制造业 [1] - 公司注册资本为253,685.180069万美元 [1] 公司经营与活动 - 公司对外投资了1家企业 [1] - 公司共参与招投标项目2,944次 [1] - 公司拥有专利信息1,986条 [1] - 公司拥有行政许可117个 [1]