英特尔取得用于先进集成电路结构制造的鳍切口和鳍修整隔离专利
公司技术进展 - 英特尔公司在中国取得一项名为“用于先进的集成电路结构制造的鳍切口和鳍修整隔离”的专利 [1] - 该专利授权公告号为CN109860179B，申请日期为2018年11月 [1] 行业技术动态 - 该专利涉及先进的集成电路结构制造技术，具体指向鳍式场效应晶体管（FinFET）架构中的关键工艺步骤 [1]
公司技术进展 - 英特尔公司在中国取得一项名为“用于先进的集成电路结构制造的鳍切口和鳍修整隔离”的专利 [1] - 该专利授权公告号为CN109860179B，申请日期为2018年11月 [1] 行业技术动态 - 该专利涉及先进的集成电路结构制造技术，具体指向鳍式场效应晶体管（FinFET）架构中的关键工艺步骤 [1]