公司近期动态 - 公司将于2024年1月31日至2月2日在韩国首尔COEX中心举行的SEMICON Korea 2024上展示其创新的Purion™离子注入机平台，展位号为D712 [1] - 公司将在展会期间举办两场技术研讨会：一场是关于宽禁带半导体掺杂技术的SEMI技术研讨会，由Axcelis的Kyungwon Lee博士主讲，时间为1月31日下午3:45至4:10；另一场是关于碳化硅掺杂技术的SiC功率半导体峰会，同样由Kyungwon Lee博士主讲，时间为2月2日上午11:00至11:30 [2] 产品与技术展示 - 公司将展示Purion H™系列，包括Purion H5™和Purion Dragon™，为高电流注入提供全面解决方案 [1] - 公司将展示Purion H200™，这是一款先进的单晶圆高电流中能量注入机，专为满足物联网和功率应用器件的独特注入需求而设计 [1] - 公司将展示Purion XE™系列，这是行业领先的高能量注入平台，其中Purion XEmax采用专利Boost Technology™，专为最先进的图像传感器应用设计 [1] - 公司将展示Purion M™系列，提供最广泛的中电流应用覆盖范围，具有无与伦比的灵活性以满足当前不断变化的注入要求 [1] - 公司将展示Purion Power Series™，为整个功率器件应用领域提供创新的处理解决方案，并能处理所有晶圆类型，包括硅、碳化硅和薄晶圆 [1] - 公司将展示创新的增强现实解决方案，利用微软HoloLens移动全息技术实现远程培训、服务、测试和故障排除 [1] 市场与战略 - 公司总裁兼首席执行官Russell Low表示，韩国长期以来一直是公司非常重要的市场，公司期待通过其亚洲运营中心和强大的本地供应链，为韩国芯片制造商提供最先进的离子注入技术 [2] - 公司总部位于马萨诸塞州贝弗利，致力于通过离子注入系统的设计、制造和全生命周期支持来开发关键的工艺应用，离子注入是集成电路制造过程中最关键和核心的步骤之一 [3] - 公司为半导体行业提供创新、高生产力的解决方案已超过45年 [3]