Workflow
美国要发力EUV光刻
半导体芯闻·2025-04-14 18:16

如果您希望可以时常见面,欢迎标星收藏哦~ 在从英特尔离开之后,前英特尔CEO帕特·基辛格 (Pat Gelsinger) 找到了新的岗位,那就去 EUV光源初创公司xLight的执行董事长。 熟悉半导体的读者应该知道,光刻技术的核心是光。目前,最先进的芯片制造采用一种名为极紫外 (EUV) 光刻的工艺,该工艺使用特定波长的光将电路图案以纳米级打印到硅pain上。目前产生 EUV 光的方法——激光等离子体 (LPP:Laser produced plasma)——极其耗电(约 1.5 兆瓦的电 力只能产生 500 瓦的光)。 而新创公司xLight则希望使用粒子加速器为光刻机产生光,并声称它可以在 2028 年之前生产出这 种光源,同时保持与现有工具的兼容性。 革命EUV光刻 xLight 在 官 网 表 示 , 公 司 的 使 命 是 将 粒 子 加 速 器 驱 动 的 自 由 电 子 激 光 器 (FEL : Free Electron Lasers ) 商业化,以满足美国关键的经济和国家安全应用。xLight也指出,公司正在打造全球最强 大的激光器,以革新半导体光刻、计量技术以及其他关键的经济和国家安全应 ...