国际低温键合3D集成技术研讨会首次登录中国
半导体芯闻·2025-04-21 18:20

半导体键合技术研讨会 - 2025中国国际低温键合3D集成技术研讨会(LTB-3D 2025)将首次在中国举办,聚焦低温键合、异质集成、先进封装等核心技术,为半导体产业提供国际交流平台 [1][3] - 会议由青禾晶元联合日本先进微系统集成研究所(IMSI)等机构主办,获得中国科学院微电子所、西安电子科技大学等权威机构支持 [5][8] - 会议将探讨表面活化键合(SAB)和原子扩散键合(ADB)等低温键合技术,这些技术已应用于半导体器件、光子系统和功率电子系统的量产 [5] 青禾晶元公司 - 公司是中国半导体键合集成技术领域的高新技术企业,核心业务包括高端键合装备研发制造与精密键合工艺代工 [10] - 技术应用于先进封装、半导体器件制造、晶圆级异质材料集成及MEMS传感器等领域,形成"装备制造+工艺服务"双轮驱动模式 [10] - 已开发四大自主知识产权产品矩阵:超高真空常温键合系统、混合键合设备、热压键合装备及配套工艺服务 [10] 会议详情 - 会议时间定于2025年8月3日-4日,地点为中国天津 [3][7] - 注册费用分为常规、会员和学生三类,早期注册可享受优惠,例如常规早鸟注册费为3000元人民币,后期注册费为3300元人民币 [7] - 摘要提交截止日期为2025年5月6日,最终稿件提交截止日期为6月30日 [7]