溅射靶材通常是具有不同尺寸和形状的固态金属块。靶材的材料可以是纯金属、合金，也可以是氧化物或氮化物等化合物。 本报告仅涵盖纯金属溅射靶材。纯金属溅射靶材通常由高纯度金属制成，是溅射沉积技术中最广泛使用和最基础的涂层材料。如铝、铜、银、金 等金属靶材，在现代工业中非常常见。 据 QYResearch 调研团队最新报告"全球纯金属溅射靶材市场报告 2025-2031 "显示，预计 2031 年全球纯金属溅射靶材市场规模将达到 27.6 亿美 元，未来几年年复合增长率 CAGR 为 4.8% 。 纯金属溅射靶材 ，全球市场总体规模 全球 纯金属溅射靶材 市场前 14 强生产商排名及市场占有率（基于 2 024 年调研数据；目前最新数据以本公司最新调研数据为准） 根据 QYResearch 头部企业研究中心调研，全球范围内纯金属溅射靶材生产商主要包括 JX Nippon 、 Honeywell Electronic Materials 、宁波江丰电 子材料、 Plansee 、 Tosoh 、 Materion 、 Sumitomo Chemical 、 Hitachi Metals 、爱发科、 GRIKIN 等。 ...