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刻蚀设备密集中标,两高校强调“国产”!
仪器信息网·2025-07-18 11:00

高校密集采购刻蚀设备 - 7月1日至7月14日两周内共有7条刻蚀设备中标信息显示高校密集采购刻蚀设备 [2] - 采购反映了我国在半导体基础研究、人才培养和国产化替代上的加速布局 [2] - 部分高校明确要求国产化 如复旦大学和天津大学在招标公告中提示"本项目不接受进口产品" [2] 刻蚀设备行业概况 - 刻蚀是半导体制造工艺中的重要步骤 是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程 [2] - 刻蚀工艺通常分为湿法刻蚀工艺和干法刻蚀工艺 [2] - 刻蚀的基本目标是在涂胶的硅片上正确复制掩模图形 [2] 具体采购项目详情 - 深圳技术大学采购感应耦合等离子体刻蚀机1套 单价95万元 品牌为芯微诺达 [3] - 天津大学采购电感耦合等离子体刻蚀机1台 单价118万元 品牌为沈阳自举捷 [3] - 哈尔滨工业大学采购偏压辅助离子刻蚀系统1套 单价198万元 品牌为湖北碳六 [3] - 中国科学院苏州纳米所采购等离子体超高真空高温原子层沉积转接系统等设备 单价285.74万元 品牌为中国科学院沈阳科学仪器 [3] - 中国科学院半导体研究所采购离子束刻蚀设备1套 单价172.065万元 品牌为埃德万斯 [3] - 复旦大学采购深硅刻蚀机1台 单价479.5万元 品牌为北京北方华创微电子 [3] - 中国科学院上海技术物理研究所采购低温超深宽比反应离子刻蚀系统1套 单价529.8万元 品牌为Oxford Instruments [3]