光刻机行业动态 - 近期高校密集采购光刻设备，包括掩模光刻机、电子束光刻机等，旨在夯实芯片人才培养与基础研究硬件基础 [2] - 光刻机是半导体制造中最核心的设备之一，通过光学曝光技术将电路图案从掩模板转移到硅片上，为芯片制造提供纳米级精度的图形刻画能力 [2] - 光刻机根据光源的不同可分为紫外光源（UV）、深紫外光源（DUV）、极紫外光源（EUV），其中ASML是全球唯一一家能够设计和制造EUV光刻机设备的厂商 [2] 高校采购详情 - 东南大学采购掩模光刻机，品牌为SUSS，型号MA/BA6 Gen4，单价3540636.9元 [3] - 中山大学采购电子束光刻机升级改造，品牌为Raith，定制型号，单价1921420元 [3] - 北京大学深圳研究生院采购光刻机，品牌为SUSS，型号MA/BA6 Gen4，单价2996000元 [3] - 吉林师范大学采购光刻机等设备，品牌包括JouleYacht、IOE、奥施特等，总价3218980元 [3] 市场竞争格局 - 高端光刻胶90%的市场份额被日企（如JSR、TOK）占据 [2] - SUSS、Raith等国际品牌在高校光刻机采购中占据主导地位 [3]