技术突破 - 国产首台商业化电子束光刻机"羲之"精度达0.6纳米，线宽8纳米，打破国际技术封锁 [1][2][5] - 设备通过高能电子束直接在硅基上"手写"电路，无需传统光刻所需的掩膜版，可灵活修改设计图案 [5] - 电子束光刻技术专攻量子芯片和新型半导体研发核心环节，虽生产效率低于EUV光刻，但在前沿领域具不可替代优势 [5][6] 研发与应用进展 - 设备由浙大量子研究院依托省重点实验室自主研发，目前正由中国科技大学和浙大量子研究院团队进行测试 [4][5] - "羲之"已吸引华为海思等多家企业及科研机构接洽，市场应用前景广阔 [5] - 设备于8月13日在客户现场启动应用测试，标志着量子芯片研发领域实现自主装备突破 [2][6] 产学研协同机制 - 项目通过浙江大学、校友总部经济园与余杭地方政府协同推动，形成"技术需求清单-揭榜研发-全流程陪跑"的成果转化模式 [6] - 浙江省级教育科技人才一体改革专项试点落地浙江大学校友企业总部经济园，强化科技创新与产业创新融合 [6]