摘要 ： 近日，zycgr发布多批政府采购意向，仪器信息网特对其中的仪器设备品目进行梳理，统计出9项 仪器设备采购意向，预算总额达2.14亿元。 立式化学气相沉积系统(CVD) 立 式 化 学 气 相 沉 积 系 统 (Vertical Chemical Vapor Depos ition Sy s tem) 是 一 种 采 用 垂 直 布 局 设 计 的 薄 膜 沉 积 设 备 ， 广 泛 应 用 于 半 导 体 制 造 、 光 电 器 件 、 太 阳 能 电 池 和 纳 米 材 料 等 领 域。立式CVD系统是通过气相化学反应在基材表面沉积薄膜材料的设备，其核心原理是通过高 温或等离子体激活气态前驱体，使其在基片表面发生化学反应形成固态薄膜。区别于传统的水 平 式 CVD 系 统 ， 立 式 系 统 采 用 垂 直 布 局 设 计 ， 基 片 垂 直 放 置 于 多 层 载 具 上 ， 气 流 自 上 而 下 流 动，这种设计能有效减少颗粒沉降对基片的污染。 原子层沉积系统 原子层沉积系统(Atomic Layer Depos ition Sy s tem)是一种基于原子层沉积技术的先进薄 膜 制 备 设 ...