诉讼事件核心 - 台积电向法院提起诉讼，指控前资深副总经理罗唯仁违反保密协议与竞业禁止义务，涉嫌将2nm等先进制程机密泄露给英特尔[3] - 台积公司法务部门调查发现，罗唯仁在2024年3月离开管理研发的部门后，仍多次要求研发团队提供先进制程资料，并在离职面谈时隐瞒将入职英特尔的事实[3] - 台积电认为相关营业秘密可能已被转移至英特尔[4] - 英特尔回应指控为“毫无根据的谣言”，并强调公司有严格政策禁止使用第三方知识产权[5] 技术路线差异 - 英特尔指出其18A制程采用RibbonFET晶体管与背面供电技术，与台积电2nm工艺路线存在本质差异，声称无需借助外部技术数据[5] - 业内观点认为双方制程技术存在多项本质差异，英特尔是高数值孔径极紫外光刻（High-NA EUV）技术的早期采用者，而台积电目前尚未布局该技术[5] 英特尔18A工艺进展 - 英特尔宣布其18A工艺已在美国亚利桑那州工厂启动大规模量产[6] - 该工艺采用RibbonFET晶体管与PowerVia技术，晶体管密度较上一代提升30%，相同能耗下性能提升15%[6] - 该技术被视为英特尔打破台积电技术垄断的核心抓手[7] 行业竞争背景 - 2025年第二季度全球纯晶圆代工行业营收同比增长33%，核心驱动力是先进工艺在AI GPU领域的应用[7] - 若英特尔无法在未来1-2年内将18A制程良率提升至商业化水平，其技术先发优势将被台积电、三星的成熟产能吞噬，面临失去高端代工市场入场资格的风险[7] - 英特尔招揽罗唯仁的核心原因是希望借助其行业经验加速技术落地，本质是与时间赛跑[7] 关键人物背景 - 罗唯仁拥有美国加州大学伯克利分校固态物理与表面化学博士学位，曾在英特尔担任CTM厂长，于2004年7月加入台积电[7] - 罗唯仁在台积电工作期间主导EUV光刻技术导入，于2025年7月27日退休，较公司限定67岁退休年龄延退8年，是台积电历任副总级退休年纪最高者[7]