垂直包围栅极(VSG)晶体管技术
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美媒关注长鑫技术突破
国芯网· 2026-10-14 12:23
文章核心观点 - CNBC发文关注长鑫存储取得的技术突破,长鑫存储是全球存储芯片制造商的主要竞争对手,行业巨头包括美光、SK海力士和三星 [1] - 长鑫存储宣布其新型架构研发取得进展,该架构能够在更小的空间内存储更多数据,从而提高存储密度 [1] - 长鑫存储上市后,市场最关注的问题之一是该公司能否缩小与美光、三星和SK海力士之间的技术差距,尤其是在高带宽内存领域 [3] - 分析师通常认为长鑫存储在最前沿的存储技术研发方面落后于全球竞争对手,因此任何有关其取得技术突破的消息,都可能显著影响投资者对其全球竞争对手市场优势的看法 [4] 长鑫存储技术突破 - 长鑫存储总裁曹堪宇在10月10日的第四届集成芯片和芯粒大会上透露了一项新的DRAM技术进展 [3] - 曹堪宇介绍了名为4F²的DRAM架构,并表示长鑫存储预计将在年底推出采用这项技术的新一代DDR5 RDIMM产品 [3] - 该架构在DRAM存储阵列晶体管上进行了创新,VSG晶体管采用垂直包围沟道结构,以实现更强栅控,解决漏电与短沟道效应痛点 [4] - 竖立的晶体管有助于面积微缩,提升存储密度 [4] - 新架构设计基于4F²技术,可实现更高的存储密度 [4] - SK海力士也在推进4F²设计,并于2025年公布了开发该技术的路线图 [4] 长鑫存储IPO表现 - 在今年夏季轰动一时的IPO之前,长鑫存储在中国市场以外鲜为人知 [3] - 在今年7月上市后,长鑫存储迅速引起全球关注 [3] - 该公司在上海科创板上市首日股价飙升近466%,一度成为当时中国上市公司中市值最高的企业 [3] 竞争对手市场反应 - 周二,美光股价下跌3.62% [1] - 韩国SK海力士股价收跌10% [1] - 三星电子下跌7.4% [1] - 其他存储芯片相关股票也纷纷走低,包括闪迪、希捷和西部数据 [1]