产品交付与市场拓展 - 公司向一家领先的全球显示面板制造商交付了首套Ultra Lith Baker系统，这是其Track系列产品的首次客户部署 [1][3] - 此次交付标志着公司正式进入显示面板客户这一新细分市场，该市场具有大批量生产能力并对设备性能和稳定性有高要求 [3] 产品技术特点与性能 - Ultra Lith BK系统旨在解决先进光刻工艺中的挑战，包括工艺不均匀性、热漂移和关键尺寸变化，有助于半导体制造商在器件尺寸持续缩小时保持稳定的良率和图形保真度 [1] - 系统具备行业领先的紫外光固化均匀性，实现±5%的UV强度均匀性，确保晶圆上光刻胶硬化的一致性 [2] - 系统支持线扫描、旋转和混合三种UV固化曝光模式，以最大化工艺灵活性 [2] - 先进的热管理架构有助于减少关键尺寸变化、套刻误差和图形畸变，对提升良率和长期工艺可靠性至关重要 [2] - 系统集成六个冷板，提供±0.1°C的温度均匀性，并采用可配置设计，最多可容纳32个热板和两套UV固化系统 [4] - 提供两种热板：高流量热板最高工艺温度达250°C，温度均匀性≤0.2%；低流量热板最高工作温度180°C，温度均匀性≤0.08%，达到行业基准性能水平 [6] 公司业务与行业定位 - 公司是半导体和先进封装应用领域晶圆和面板处理解决方案的领先供应商 [1] - 公司开发、制造和销售半导体工艺设备，涵盖清洗、电镀、无应力抛光、垂直炉工艺、Track、PECVD以及晶圆级和面板级封装工具 [6]