公司业绩与市场表现 - ASML股价在过去一周下跌近5%，过去一个月累计下跌11%，主要受贸易紧张局势影响导致财务预测软化 [2] - 2025年Q2财报显示，公司无法保证2026年收入增长，第三季度收入预期为74至79亿欧元，略低于预期，毛利率预计为52%，此前预估为51%-53% [2] - 半导体行业整体表现强劲，台积电2025年美元计销售增长预期上调至30% [2] 贸易与地缘政治风险 - 美国前总统特朗普威胁对欧盟进口商品征收30%关税，可能显著影响ASML等半导体设备制造商 [3] - ASML关键客户包括美国英特尔、亚洲台积电和三星电子，高价值设备（如单价达4亿美元的High-NA EUV机器）进口成本可能上升 [3] - 美国对中国技术出口管制加剧，ASML需获得许可才能向中国出口浸没式DUV或更先进设备 [4] 技术与产品需求 - ASML旗舰产品EUV光刻机是制造5纳米及以下先进芯片的核心设备，支撑摩尔定律延续 [5][6] - AI需求激增推动EUV设备部署，2025年预计增长30%，行业正从DUV向EUV技术过渡 [7] - 公司2025年Q1净订单额55亿欧元（64亿美元），超预期25%，未交货订单达330亿欧元（380亿美元），交付周期12-18个月 [8] 估值与行业地位 - ASML当前股价对应2025年预期市盈率27倍，收入预计增长14%，估值合理 [8] - 公司在半导体价值链中占据关键地位，拥有尖端专利技术，并受益于生成式AI趋势 [8]

公司业绩 - 2025年第二季度营收达77亿欧元（89亿美元），处于指引区间上限，净利润23亿欧元（267亿美元）[1] - 第三季度营收指引为74-79亿欧元，略低于预期，毛利率收窄至52%（此前为51%-53%）[1] - 净新增订单55亿欧元（64亿美元），超预期25%，未交付订单创纪录达330亿欧元（380亿美元）[6] 市场反应与估值 - 股价因2026年营收增长不确定性下跌约11%，当前市盈率为27倍2025年预期盈利[1][6] - 行业对比显示台积电2025年美元收入增长预期上调至30%，与公司谨慎展望形成反差[1] 核心技术与行业地位 - 公司是全球唯一极紫外光刻（EUV）设备供应商，该技术用于5纳米及以下制程芯片生产[3][5] - EUV技术通过超短波长光刻推动摩尔定律延续，支撑高性能芯片的小型化与能效提升[5] - 人工智能浪潮推动高算力芯片需求，间接拉动公司设备订单增长[6] 地缘政治风险 - 美国可能对欧盟进口商品加征30%关税，直接影响公司对英特尔、台积电、三星等客户的设备出口[4] - 单台最新High-NA EUV设备价值高达4亿美元，关税将显著增加客户采购成本[4] - 中美贸易争端导致客户资本开支不确定性上升，影响需求预测[4] 业务亮点 - 12-18个月交货周期显示当前订单已锁定2026年部分业绩[6] - 公司在半导体设备领域占据主导地位，技术具有高度专有性[6]

财务表现 - 第二季度净销售额达77亿欧元（895亿美元），超出预期的752亿欧元 [5] - 第二季度净利润为229亿欧元，高于预期的204亿欧元 [5] - 净预订量达55亿欧元，显著超过分析师预期的419亿欧元 [2] 业务亮点 - 公司是全球最重要的半导体供应链企业之一，生产极紫外光刻（EUV）设备 [2] - 新一代High NA EUV工具已发布，每台设备成本超过4亿美元 [3] - 客户包括英特尔和台积电等半导体巨头 [3] 行业地位 - EUV设备是制造苹果和英伟达等公司设计的最先进芯片的关键设备 [2] - 新一代High NA EUV工具体积超过双层巴士，是公司未来增长计划的核心 [3] 市场预期 - 公司此前预测第二季度净销售额在72亿至77亿欧元之间 [1] - 实际业绩超出市场预期，关键财务指标均高于共识 [1][5]

公司市值变动 - ASML市值在过去一年内损失超过1300亿美元 主要受对华出口限制和美国关税不确定性影响 [1] - 公司股价在去年7月达到历史高点 每股超过1000欧元 对应市值4295亿美元 但截至本周二收盘市值已跌至2970亿美元以下 [1] 行业环境变化 - 半导体行业自去年以来持续波动 主要受美国对华芯片出口限制加码及特朗普政府威胁加征关税影响 [2] - 欧洲半导体企业普遍承压 ASML等设备制造商股价下跌反映市场对中美技术限制的担忧 [2][3] 市场担忧因素 - 行业分析师指出设备商股价下跌集中反映了市场对中国市场准入受限的恐慌 [3] - 关于AI领域是否存在过度投资的争论 引发市场对半导体需求能否达到预期的质疑 [3] 技术产品进展 - ASML在半导体供应链中占据关键地位 其极紫外光刻机(EUV)被台积电等厂商用于生产最先进芯片 [3] - 公司已开始交付新一代高数值孔径(High NA)光刻设备 [4]