核心观点 - NVIDIA的cuLitho平台通过加速计算和生成式AI算法，显著提升了计算光刻的速度与效率，并与台积电合作将其应用于先进制程生产，以突破物理限制、缩短开发周期并降低能耗 [1][2] 技术性能突破 - cuLitho平台将曲线光刻流程速度提升45倍，将传统曼哈顿流程速度提升近60倍，其生成式AI应用算法可进一步将速度提升2倍 [1] - 该平台将传统需要40,000个CPU系统的计算工作量，减少至仅需500个NVIDIA DGX H100系统，计算资源需求大幅降低 [2] - 平台使每日光掩模产量提升3-5倍，同时功耗降低至原来的九分之一 [2] 行业应用与影响 - 该技术使台积电等领先代工厂能够克服当前生产流程的物理极限，满足3纳米及以下更小芯片尺寸所需的更高精度和计算密集型光刻要求 [2] - 平台显著减少了因制程变更所需的光学邻近效应修正修改所带来的计算瓶颈，加快了掩模创建速度，从而缩短了新工艺节点的开发周期 [3] - 二十年前理论上可行但计算上不切实际的反向光刻技术，现在借助cuLitho得以有效实施，为下一代半导体创新铺平道路 [3] 合作与生产整合 - NVIDIA与台积电在加速计算领域合作，cuLitho平台已整合到台积电的生产流程中 [1] - 此项合作旨在提升下一代芯片技术的开发速度，同时降低能耗 [1]