文章核心观点 - 拓荆科技在SEMICON China 2025展会首日召开新品发布会，发布三大产品系列新品，展示技术突破与产业布局，为中国半导体设备行业注入新活力，开启崭新篇章 [3][9] 发布会概况 - 2025年3月26日拓荆科技在SEMICON China 2025展会首日召开主题为“拓芯章·见未来”的新品发布会，吸引数百名嘉宾到场 [3] 技术研发与产品策略 - 公司依托多年技术积累从 前道薄膜设备走向3D - IC设备，2024年反应腔出货量超1000台，2025年将保持高研发投入，持续产品升级，实现从“国产替代”向“技术引领”的战略升级 [5] 战略新品情况 - ALD事业部国内ALD设备装机量和薄膜工艺覆盖率第一，新一代原子层沉积设备VS - 300T在坪效比、成本、薄膜均匀性等方面有优势 [6] - 3D - IC和先进封装事业部在键合和相关产品布局上实现国产键合领域设备装机量及键合相关工艺覆盖率第一，发布低应力熔融键合设备Dione 300F等多款新品 [6] - CVD事业部应用能力获市场及客户肯定，研发集中在提升客户生产效率，2023 - 2024年出货10种新产品，推出新平台PF - 300M达成提高厚膜产能等目标 [6] 启幕仪式 - 董事长与三位事业部负责人共同揭开新品模型帷幕，LED大屏同步呈现动态技术演示，现场氛围达到高潮 [7]