公司业绩表现 - 2024年营业收入约90.65亿元，同比增长约44.73%，近四年年均增幅大于40% [1] - 扣非净利润约13.88亿元，同比增长约16.52% [1] - 营业收入较2023年增加28.02亿元，过去13年保持年均超35%的复合增长，近四年年均增速提升至40%以上 [2] 核心业务表现 - 刻蚀设备全年收入约72.77亿元，同比增长约54.73%，近四年年均增速超50% [2] - CCP和ICP刻蚀设备覆盖国内95%以上的刻蚀应用需求，并在5纳米及更先进制程的国际领先产线中实现规模量产 [2] - ICP双台机Primo Twin-Star刻蚀精度达每分钟0.2埃(0.02纳米)，在氧化硅、氮化硅等材料的刻蚀工艺中表现卓越 [3] - CCP双台机已有近600个反应台在国际最先进的逻辑产线上量产，部分机台用于5纳米及更先进生产线 [3] 研发投入与产品迭代 - 2024年研发投入达24.5亿元，同比增长94.3%，占营业收入比例约27% [3] - 产品开发周期从3至5年缩短至2年甚至更短 [3] - 在研项目涵盖六大类、超20款新设备，包括新一代CCP、ICP刻蚀设备、晶圆边缘刻蚀设备等 [4] 行业市场情况 - 全球半导体设备市场规模从2019年的576亿美元提升至2023年的1063亿美元，年均复合增长率16.55% [1] - 2024年全球半导体设备市场规模1171亿美元，同比增长10.16%，中国大陆市场规模496亿美元，同比增长35%，占全球44% [1] - SEMI预测2025年全球半导体设备市场规模将达1275亿美元，同比增长16%，中国大陆仍是最大市场 [4] 技术应用与市场拓展 - MOCVD设备占据氮化镓基LED照明设备80%以上份额，并加速拓展碳化硅功率器件、Micro-LED等新兴领域 [4] - 人工智能、云计算、自动驾驶等技术普及推动芯片制造向更先进制程演进，对刻蚀、薄膜沉积等核心设备需求持续攀升 [4]