半导体湿法设备是用于半导体制造过程中的一系列设备，通过使用化学溶液与半导体材料进行反应来实 现特定的工艺目的。 半导体湿法设备超纯槽体是半导体湿法设备用于盛放晶圆片、化学清洗液、去离子水等物品的容器，半 导体湿法设备关键零部件之一。根据化学液的浓度、酸碱度和使用温度等条件，选择合适的槽体材料至 关重要。常见的材质有NPP、PVDF、PTFE、石英玻璃和不锈钢等。 半导体湿法设备主要包括湿法清洗刷洗设备及湿法刻蚀设备。目前在主流的芯片制程中，超过90%的芯 片刻蚀都是干法，湿法刻蚀设备应用较为有限。而湿法清洗是主流的清洗技术路线，占芯片制造清洗步 骤数量的90%以上。因此本文中半导体湿法设备相关市场规模主要指半导体清洗设备市场规模。 转自：前瞻产业研究院 本文核心数据：中国半导体清洗设备市场规模;中国半导体湿法设备中超纯槽体成本占比;中国半导体湿 法设备超纯槽体市场规模;企业市占率等 半导体湿法设备超纯槽体的概述 半导体湿法设备超纯槽体产业链结构分析 半导体湿法设备超纯槽体的产业链上游环节主要由原材料及加工设备构成，提供制造半导体湿法设备超 纯槽体所需的各类基础材料。这些材料包括FTFE、PFA、PVDF等塑料 ...