光刻机技术进展 - 首台TWINSCAN EXE:5200B High NA光刻机已在本季度发运 [1] - 高数值孔径（High NA）系统应用按计划推进 [1] 行业投资趋势 - 光刻机投资在晶圆厂总体投资中占比持续保持强劲 [1] - DRAM领域对光刻机投资需求尤为突出 [1] 产品线动态 - TWINSCAN NXE:3800E光刻机推出进一步巩固行业趋势 [1] - EUV光刻机应用范围持续扩展 [1]