行业趋势 - AI发展推动先进工艺产能（7nm及以下）持续扩张，ArFi/EUV光刻机需求增加 [1] - 全球半导体制造行业预计从2024年底到2028年产能将以7%的复合年增长率增长，达到每月1110万片晶圆 [1] - 7nm及以下产能预计从2024年每月85万片增长至2028年的140万片，复合年增长率达14% [1] 技术发展 - 193nm浸没式光刻结合多重曝光技术可延长商业周期至7nm节点 [1] - 台积电N7及N7P采用DUV（ArFi）光刻机实现57nm栅极间距，而N7+在关键层引入EUV光刻机 [1] - 高端光刻机突破是先进制程量产的基石，分辨率取决于光源波长、数值孔径和光刻工艺因子 [1] - 浸没式光刻和计算光刻技术对提升分辨率至关重要 [1] 市场表现 - 科创芯片ETF国泰（589100）涨超3.1%，单日涨跌幅可达20% [1][2] - 科创芯片ETF国泰（589100）跟踪的是科创芯片指数（000685） [2] 指数构成 - 科创芯片指数从科创板市场中选取涉及半导体材料、设备、芯片设计、制造、封装与测试等领域的上市公司证券作为指数样本 [2] - 该指数覆盖芯片产业的上中下游多个环节，具有较强的科技属性和行业代表性 [2]