项目进展 - 宁波半导体光掩膜版项目总投资16亿元 设计年产能1.245万片[2] - 2023年10月开工 2024年1月厂房封顶 7月首台电子束光刻机交付 10月进入试产阶段[2] - 2025年3月实现55纳米产品交付 40纳米生产线成功通线[2] 技术突破 - 完成55纳米光掩膜版交付 40纳米生产线通线 技术节点覆盖350-28nm[2] - 以45-28nm技术节点为主 具备全流程工艺覆盖能力[2] - 技术团队源自国际龙头企业 拥有全流程生产解决方案[2][3] 商业化进展 - 2025年1至6月项目实现收入超700万元[3] - 项目进入规模化量产阶段 产能逐步释放[2][3] - 目标加速高精度低线宽半导体光掩膜版进口替代进程[2] 行业意义 - 打破国外在高端光掩膜版领域的垄断局面[3] - 填补国内中高端集成电路芯片用光掩膜版市场空白[2] - 提升我国半导体光掩膜产业安全保障能力和自主可控水平[3]