核心增长驱动 - 公司预计2025年极紫外光刻（EUV）收入将实现约30%的同比增长，主要由低数值孔径（Low NA）EUV产能提升及高数值孔径（High NA）系统初始出货推动[1] - 先进客户如台积电、三星和英特尔预计将比2024年增加约30%的EUV产能，进一步支持收入增长目标[1] - 首台EXE:5200B High NA系统已出货，该型号为大规模制造设计，生产率较EXE:5000提升约60%，预计贡献2025年EUV收入增长[3] 技术优势与效率提升 - NXE:3800E系统以每小时220片晶圆的完整规格出货，允许客户以相同系统数量扩大产能，同时提高平均售价并改善利润率[2] - 在DRAM制造中，该系统以单次EUV曝光替代复杂的多重图案化深紫外光刻（DUV）步骤，从而降低成本、缩短周期时间并提高良率[2] 市场需求与行业趋势 - 人工智能（AI）应用驱动逻辑和存储芯片投资，逻辑客户增加先进制程节点产能，DRAM客户在最新及未来节点中增加更多EUV层[3] - 尽管存在宏观经济不确定性和地缘政治风险，公司预计2025年总收入增长约15%，受益于产品结构向采用先进EUV光刻系统的逻辑和DRAM生产倾斜[4] 财务表现与估值 - Zacks共识预期公司2025年收入为378.3亿美元，同比增长23.8%[4] - 公司远期市销率为7.54倍，高于行业平均的7.06倍[11] - 2025财年每股收益共识预期为28.13美元，同比增长30.1%；2026财年为28.55美元，同比增长1.5%[14][15] 竞争格局与行业生态 - 应用材料（AMAT）和KLA公司（KLAC）是先进芯片制造工具领域的关键参与者，分别专注于芯片制造中的图案化/沉积设备和过程控制/计量设备[5] - 尽管不生产EUV系统，两家公司均受益于半导体复杂性提升，并投资下一代技术，与公司EUV增长形成生态协同[6]