公司专利技术突破 - 公司获得"离子源用气体穿透件"实用新型专利 授权公告号CN223249536U 该专利于2024年08月申请[1] - 专利技术通过进气管杂质滤网和出气管石墨烯气凝胶层实现双重过滤 有效保证反应气试剂的纯净程度[1] - 专利主要解决供气管道老化时剥离细小颗粒污染反应气的问题 应用于光学镀膜领域[1] 公司基本经营状况 - 公司成立于2021年 位于扬州市 主要从事计算机、通信和其他电子设备制造业[1] - 企业注册资本2807.87万人民币 参与招投标项目15次[1] - 公司拥有商标信息6条 专利信息45条 行政许可6个[1]