技术差距 - 中国在先进芯片制造领域与西方发达国家存在大约20年的技术差距 [1] - 中国在光刻设备制造方面与美国相比存在明显差距 [1] 光刻设备制约 - 最先进光刻设备由欧洲企业研发制造 其技术依赖美国核心零部件 [1] - 中国企业难以获得高端光刻设备 直接导致先进工艺研发和量产面临困难 [1] - 国内芯片制造企业采用相对落后技术手段制造7纳米工艺芯片 影响生产效率和显著提高制造成本 [1] 供应链与核心技术 - 高端光刻设备制造涉及全球供应链体系 关键零部件多分布于美欧地区 [1] - 光刻工艺是将芯片设计图形转移到硅片上的核心技术 高端设备能实现更精细线路刻画提升芯片性能 [1] - 光刻设备在芯片制造流程中具有不可替代的关键作用 决定整个产业向高端化发展的能力 [1]