技术突破与设备研发 - 成功研发出国内首台量产型High-k ALD设备，攻克高介电常数栅氧层薄膜工艺的核心难题 [1] - CVD设备在硬掩膜工艺取得突破性进展，成为国内首批成功开发并进入产业链核心厂商量产线的企业 [1] - 核心技术实现多领域覆盖，精准适配逻辑芯片、存储芯片、先进封装、化合物半导体及新型显示等关键应用场景 [1] 行业影响与战略定位 - High-k ALD设备顺利应用于集成电路制造前道生产线，推动国内半导体产业自主化进程 [1] - 公司持续聚焦半导体先进制程薄膜工艺解决方案，服务并引领半导体新架构、新器件发展 [1] - 打通国内先进半导体下一代技术迭代的需求，引领行业创新发展 [1]