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空白掩模版:光刻工艺核心原料,国产化亟待突破 | 投研报告
中国能源网·2025-10-11 09:11

行业概述与市场地位 - 半导体掩模版是核心半导体材料之一,2021年占全球半导体材料市场的12%,仅次于硅片和电子特气 [1][2] - 半导体掩模版是技术要求最高的掩模版品类,同时也是最大的掩模版应用市场,IC制造生产占据掩模版下游60%的份额 [2] - 高端半导体掩模版主要被美国和日韩厂商垄断 [2] 市场规模与增长动力 - 全球半导体掩模版市场规模有望在2025年达到60.79亿美元,同比增长7% [1][2] - 中国大陆半导体掩模版市场规模从2017年的9.12亿美元增至2022年的15.56亿美元,2017-2022年复合增速达到11.3% [1][2] - 随着中国大陆在先进制程领域不断突破,掩模版市场规模有望进一步扩大 [2] 产品结构与成本分析 - 空白掩模版是半导体掩模版的核心部件,可类比为拍照前的胶片,基本结构是在玻璃面板上镀一层光学薄膜 [3] - 空白掩模版是构成光掩模版的主要成本项,根据龙图光罩招股说明书,2021-2023年间采购原材料中空白掩模版占比分别为64%、58%、53% [3] - 2024年全球空白掩模版市场规模约为18亿美元,中国大陆市场规模约为4亿美元 [3] 竞争格局与国产化进程 - 日本厂商占据全球空白掩模版的主要市场份额,包括HOYA、信越、AGC等,其中HOYA在EUV空白掩模版市场占有率占据主导地位 [3] - 中国大陆厂商聚和材料拟通过收购韩国SKE的相关业务介入空白掩模版领域,弥补国内高端空白掩模版的缺失 [3] - 半导体掩模版国产化对国产半导体产业链具备重要战略意义,能够降低国内半导体产业链对国外的依赖 [2][4] 相关公司 - 建议关注聚和材料(拟通过收购SKE布局空白掩模版业务)、龙图光罩、路维光电、清溢光电等 [4]