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被“吹爆”的MRAM,走向MCU
36氪·2025-10-24 19:29

文章核心观点 - 嵌入式闪存在28nm制程达到极限,微控制器行业正转向新型存储器以寻求突破,其中磁存储器被广泛看好并已进入商业化应用阶段 [1][3] - 磁存储器被视为“全能手”,在速度、功耗、耐久性等方面具有综合优势,是微控制器在先进制程下的关键解决方案 [8][10][16] - 行业巨头如恩智浦和瑞萨电子已率先推出基于磁存储器的微控制器产品,分别聚焦于汽车区域控制器和边缘人工智能等高增长市场 [19][22][26][28] 新型存储技术背景与驱动因素 - 嵌入式闪存技术面临28nm以下的物理极限,限制了微控制器制程的进一步微缩,促使厂商探索替代方案 [1][3] - 为突破制程限制并提升非易失性存储器的传输速度,各大厂商选择了不同的新型存储技术路线,包括阻变存储器、相变存储器、铁电存储器和磁存储器 [5][6] 主要新型存储技术对比 - 磁存储器的读取和写入时间低至3-20纳秒,耐久性超过10的15次方,且无需高电压 [7] - 相变存储器的单元面积较小(6-12 F²),但写入/擦除时间较长(60-120纳秒),耐久性为10的8次方 [7] - 阻变存储器的单元面积最小(6-10 F²),写入功耗低,但耐久性与相变存储器相同 [7] - 铁电存储器的读取时间相对较慢(20-80纳秒),需要2-3伏的工作电压 [7] - 第二代磁存储器技术(自旋转移扭矩磁存储器)的单元面积优化至6-20 F²,工作电压低于1.5伏,功耗更低 [7][11] 磁存储器的技术优势与演进 - 磁存储器具有读写次数近乎无限、写入速度快、功耗低、面积小、抗辐射等特性,其耐温范围(-40℃至150℃)覆盖车规级要求 [10][16] - 磁存储器的核心技术是磁隧道结,即使断电也能保持数据,其结构演进推动技术发展 [10] - 磁存储器技术已发展至第三代,包括自旋轨道矩磁存储器和压控磁各向异性磁存储器,但目前第二代自旋转移扭矩磁存储器凭借1晶体管1磁隧道结结构在成本与性能平衡上占据主导 [11] - 台积电近期通过复合结构材料解决了第三代自旋轨道矩磁存储器的热稳定性问题,为产业化铺平道路 [13] 嵌入式磁存储器的应用价值 - 与相变存储器和阻变存储器相比,嵌入式磁存储器具有更低的温度敏感性、更高的生产良率和更长的耐用性,支持字级擦除操作,是节能的非易失性存储器解决方案 [15] - 尽管嵌入式磁存储器的晶圆制造成本较高,但其高可靠性和低可变性带来了面积高效和鲁棒的设计,从而抵消了成本劣势 [16] - 嵌入式磁存储器最初为航空航天领域开发,现已成为智能汽车空中下载软件更新等追求高可靠性和数据完整性应用的理想选择 [16] 磁存储器面临的挑战 - 磁存储器面临材料体系复杂、开关比低、与标准工艺完全匹配等挑战,同时在动态功耗、能量延迟效率和可靠性方面存在瓶颈 [18] - 磁存储器对强磁场敏感,系统设计需通过物理隔离或屏蔽技术来规避风险,芯片设计需集成内置自检和错误代码纠正功能 [18] 行业领先公司的产品战略 - 恩智浦推出全球首款16nm FinFET+磁存储器汽车微控制器S32K5,磁存储器容量高达41MB,写入速度比闪存快10倍,耐久性达100万次写入,服务于软件定义汽车的区域控制器需求 [19][20] - 瑞萨电子采用22nm超低泄漏工艺,推出多款搭载磁存储器的RA8系列微控制器,包括RA8P1、RA8T2、RA8M2和RA8D2,重点强化边缘人工智能算力,其中RA8T2集成1MB磁存储器和2MB带错误代码纠正的静态随机存储器 [22][24][26][28] - 瑞萨电子的RA8系列微控制器通过磁存储器实现了更快的写入速度、高耐用性、无需擦除操作以及更低的漏电流,部分产品提供系统级封装选项以扩展外部闪存至8MB [28][30]