技术突破 - 北京大学彭海琳教授团队通过冷冻电子断层扫描技术首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为 [1] - 该技术指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案 [1] 行业影响 - 光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一 [1] - 相关研究成果已刊发于《自然·通讯》期刊 [1]