技术突破 - 北京大学团队首次通过冷冻电子断层扫描技术原位解析光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为 [1][3] - 该技术将光刻胶在显影液中的状态快速冷冻至玻璃态进行“定格”，并通过三维重构算法获得分辨率优于5纳米的高分辨率三维视图 [3] - 该方法一举解决了传统技术无法原位、三维、高分辨率观测光刻胶微观行为的三大痛点 [3] 产业意义与应用前景 - 该研究精准掌握了光刻胶在液体中的微观行为，将显著减少光刻缺陷，推动光刻、蚀刻、清洗等先进制造环节的良率提升 [4] - 光刻工艺耗时占集成电路制造总耗时的50%左右，成本约占集成电路生产成本的1/3 [4] - 冷冻电子断层扫描技术为在原子/分子尺度上原位研究液体环境中的化学反应提供了通用工具，其意义远超光刻领域本身 [4] 光刻胶市场 - 2023年中国光刻胶市场规模约为109.2亿元，2024年增长至114亿元以上 [5] - 预计到2025年，中国光刻胶市场规模可达123亿元，KrF光刻胶等中高端产品国产替代进程正在加快 [5] - 光刻胶可分为半导体光刻胶、面板光刻胶和PCB光刻胶，其中半导体光刻胶的技术壁垒最高 [4] 光刻机国产化进程 - 中国光刻机国产化进程加快，但在高端光刻机技术方面仍受制于国外供应商 [6] - 光刻机产业链涵盖上游设备及配套材料、中游系统集成和生产、下游应用三大环节 [6] - 国内在光刻机各细分技术领域均有技术储备，例如科益虹源研发248nm和193nm准分子激光器，国望光学研发90nm节点ArF光刻机曝光光学系统等 [7] 产业链相关公司 - 光刻机产业链中技术积累较深或已进入核心供应链的厂商包括芯碁微装、富创精密、炬光科技、赛微电子、波长光电等 [6] - 在光源领域，福晶科技、茂莱光学等公司有所布局；在整机领域，上海微电子、奥普光电等公司有所涉及 [6]