技术突破 - 北京大学彭海琳教授团队通过冷冻电子断层扫描技术首次原位解析光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为 [1] - 该技术突破指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案 [1] - 光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一 [1] 行业格局与前景 - 中国光刻胶产业已形成“多点开花，梯队突破”的格局 [1] - 行业增长受三重逻辑支撑：市场规模持续扩容，国产化替代空间广阔；技术突破打通产业化瓶颈；政策与需求双轮驱动，行业进入红利释放期 [1] - 中国光刻胶产业正从“技术突破期”迈向“规模化放量期”和“盈利能力兑现期” [1] 市场表现 - 截至2025年10月27日09:44，上证科创板半导体材料设备主题指数(950125)强势上涨3.80% [1] - 指数成分股艾森股份(688720)上涨11.45%，拓荆科技(688072)上涨6.57%，中微公司(688012)上涨5.36% [1] - 科创半导体ETF鹏华(589020)上涨3.84%，最新价报1.22元 [1] 指数与ETF构成 - 科创半导体ETF鹏华紧密跟踪上证科创板半导体材料设备主题指数 [2] - 上证科创板半导体材料设备主题指数选取科创板内业务涉及半导体材料和半导体设备等领域的上市公司证券作为指数样本 [2] - 截至2025年9月30日，该指数前十大权重股合计占比74.36%，包括中微公司、华海清科、拓荆科技等 [2]