据科技日报，光刻技术是推动芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工 程学院彭海琳教授团队及其合作者在《自然-通讯》上披露了他们的新发现。该团队通过冷冻电子断层 扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为， 指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。 银河证券指出，资金围绕科技自立主线集中布局，头部半导体设备企业订单能见度有望持续提升。新阶 段规划重点聚焦关键核心技术领域的自主突破，设备是直接受益环节之一。短期看，AI算力需求或推 动国内外逻辑与存储厂商扩产，刻蚀、薄膜沉积设备需求旺盛；长期看，国产自主可控逻辑在科技自强 战略下更为稳固。 本周一，上证指数距4000点仅一"点"之遥，创十年新高，国产芯片全线走强。半导体设备ETF （561980）单日收涨2.97%，最近20个交易日累计获资金净流入12.83亿元，年内份额增76.1%。 展望未来，华福证券指出，本周包括马来西亚经贸磋商、月底APEC峰会，此外美联储议息会议也将在 10月28—29日召开。在上述"靴子"落地后，观望资金有望重新入场，带动市场风险偏好回升和交投活 跃，科技成长有望继 ...