财务业绩 - 2025年前三季度实现营业收入80.63亿元，同比增长46.40% [1] - 前三季度归属于上市公司股东的净利润为12.11亿元，同比增长32.66% [1] - 毛利润较上年同期增长约8.27亿元 [1] - 研发支出较上年同期增长9.79亿元，增幅约63.44%，占营业收入比例约为31.29% [1] - 计入非经常性损益的股权投资收益为3.29亿元，较上年同期增加约2.75亿元 [1] 业务收入构成 - 刻蚀设备收入61.01亿元，同比增长约38.26% [1] - LPCVD和ALD等薄膜设备收入4.03亿元，同比增长约1332.69% [1] 研发与产品进展 - 在研项目涵盖六类设备、超二十款新设备的开发 [2] - 新设备开发周期从三到五年缩短至两年或更短 [2] - 60比1超高深宽比介质刻蚀设备成为国内标配设备，下一代90比1设备即将进入市场 [3] - 适用于下一代逻辑和存储客户的ICP刻蚀设备和化学气相刻蚀设备开发取得良好进展，加工精度达单原子水平 [3] - LPCVD、ALD等多款薄膜设备性能达国际领先水平，覆盖率不断增加 [3] - 硅和锗硅外延EPI设备已进入客户端量产验证并获得高度认可 [3] - 更多化合物半导体外延设备已陆续付运至客户端验证 [3] 市场地位与交付 - 等离子体刻蚀设备已应用于国际一线客户从65纳米到5纳米等先进集成电路制造线及先进存储、封装线 [4] - CCP和ICP刻蚀机可覆盖国内95%以上的刻蚀应用需求 [4] - 高端刻蚀产品新增付运量显著提升，先进逻辑器件中段刻蚀和存储器超高深宽比刻蚀实现大规模量产 [2] - 过去14年营业收入年均增长大于35%，2025年上半年营业收入达49.61亿元，同比增长43.9% [4]