编辑 | 漠影 芯东西10月29日报道，一家神秘的美国芯片设备创企刚刚露面，就成为新晋半导体独角兽，还放出豪言 壮语，立志挑战半导体产业的两大巨头——光刻机霸主ASML和晶圆厂霸主台积电。 这家创企是Substrate，已获得1亿美元（约合人民币7亿元）种子轮融资，估值超过10亿美元（约合人民 币71亿元）。 它开发了一种新型的先进X射线光刻技术，使用粒子加速器从较短波长的X射线中产生光源，产生更窄 的光束。 该公司声称已经解决了光刻技术领域最棘手的难题之一，其机器展示的结果可与ASML的High-NA EUV 机器生产的功能相媲美，分辨率相当于2nm半导体节点，并具有远远超越的能力。 团队约50人。 作者 | ZeR0 ▲Substrate具有12nm临界尺寸和13nm尖端间距的随机逻辑接触阵列，具有高图案保真度 根据官网介绍，Substrate团队设计了一种新型垂直集成代工厂，利用粒子加速器产生世界上最亮的光 束，从而实现了一种先进的X射线光刻新方法。 其加速器能够产生并驱动比太阳亮数十亿倍的光束，这些光束直接进入Substrate的光刻工具。每个工具 都采用全新的光学和高速机械系统，以生产先进半导体芯片 ...