但是，与日本，中国光刻胶仍然有很大的差距。 为了打破国际垄断，中国企业全力攻关，进步确实很大。 到底差在哪里？ 光刻胶，是芯片制造的关键材料。 中国企业又该如何突围？ 光刻胶国产化 光刻胶，顾名思义，就是光刻机在光刻过程中使用的聚合物薄膜材料，英文直译过来是光致抗蚀剂，能在紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射 下，发生聚合或解聚反应，把图案留在硅片上。 光刻胶工作原理 我们平常说的光刻胶，其实是一类产品的统称。 光刻完成后的晶圆片 每类都有前面说的正负性之分，品种规格很多，非常复杂，对应的配方和生产技术也简单不了，但总体上都包括三种成分：感光树脂、增感剂和溶剂。 光刻胶的使用范围相当广，显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形的加工作业都用得到，下游产品从智能手机的处理器到医疗设备的传感器， 再到航天器的控制系统……无所不包。 尤其是对于精密制造和小型化设备的生产，光刻胶更是至关重要。 光刻胶是智能装备必不可少的源头精细化工品，其性能直接影响到终端产品的产能和质量。 光刻胶的市场规模基本约等于智能装备的制造能力，它的研发和改进也是半导体技术水平的关键指标。 正是意识到光刻胶的重要性，近二十年来，我国 ...