公司技术进展 - 公司参股子公司瑞典Silex此前已实现MEMS-OCS的量产 [1] - 公司控股子公司北京Fab3此前已实现MEMS-OCS的风险试产 [1] MEMS-OCS技术特性 - MEMS-OCS是一组由指定数量平面镜所构成的微镜阵列 可用于精确调节光链路的折射方向 实现光链路之间的信号切换与双向传播 [1] - 该技术可提高运算系统的整体性能及稳定性 同时降低系统成本与功耗 [1] - 技术可在数据中心网络 超算系统集群等场景中得到广泛应用 [1] 技术与工艺壁垒 - MEMS-OCS的技术壁垒高 结构复杂精密 核心在于其精巧的驱动机制 [1] - 制造工艺采用一系列先进微加工技术 如光刻 离子束刻蚀 化学腐蚀和晶片键合等 [1] - 开发涉及光学 机械 电子 热学多领域知识 需在光路损耗 切换速度 机械稳定性之间取得平衡 [1] - 大规模NxN阵列的设计与控制对信号同步要求高 需保证在数百万次机械动作中稳定可靠 [1] - 晶圆加工 表面镀膜 微机械结构释放等工序均必须高度精准 批次稳定 任何微小瑕疵都可能在生产中被放大为良率下降的隐患 [1]