诉讼事件核心 - 台积电向法院提起诉讼，指控前资深副总经理罗唯仁违反保密协议与竞业禁止义务，涉嫌将2nm等先进制程机密泄露给英特尔 [1] - 英特尔回应指控为"毫无根据的谣言"，并强调有严格政策禁止使用第三方知识产权 [2] - 台积电法务部门调查显示，罗唯仁在离职面谈时声称将入职学术机构，但随后在10月底以执行副总裁身份出现在英特尔员工名单中 [1] 涉事人员背景 - 罗唯仁于2025年7月27日从台积电退休，工作期间主导EUV光刻技术导入，拥有美国加州大学伯克利分校固态物理与表面化学博士学位 [1][3] - 罗唯仁曾在英特尔担任先进技术制造厂CTM厂长，2004年7月加入台积电，退休时75岁，是台积电历任副总级退休年纪最高者 [3] 技术路线差异 - 英特尔18A制程采用RibbonFET晶体管与背面供电技术，声称与台积电2nm工艺路线存在本质差异 [2] - 英特尔是高数值孔径极紫外光刻（High-NA EUV）技术的早期采用者，而台积电目前尚未布局该技术 [2] - 英特尔宣布其18A工艺已启动大规模量产，晶体管密度较上一代提升30%，相同能耗下性能提升15% [2] 行业背景与竞争态势 - 2025年第二季度全球纯晶圆代工行业营收同比增长33%，核心驱动力是先进工艺在AI GPU领域的应用 [3] - 英特尔若无法在未来1-2年内将18A制程良率提升至商业化水平，其技术先发优势可能被台积电、三星的成熟产能吞噬 [3] - 英特尔18A技术被视为打破台积电技术垄断的核心抓手 [2]