中芯国际取得掩膜版图形成方法专利
搜狐财经·2026-01-20 13:30

公司新闻与专利动态 - 中芯国际(上海)与中芯国际(北京)共同取得一项名为“掩膜版图的形成方法”的专利,授权公告号为CN116413995B,该专利的申请日期为2021年12月 [1] 公司基本情况(上海) - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司成立于2000年,位于上海市,主营业务为计算机、通信和其他电子设备制造业 [1] - 公司注册资本为244,000万美元 [1] - 公司对外投资了4家企业,参与招投标项目129次 [1] - 公司拥有商标信息150条,专利信息5,000条,以及行政许可446个 [1] 公司基本情况(北京) - 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司成立于2002年,位于北京市,主营业务为计算机、通信和其他电子设备制造业 [1] - 公司注册资本为100,000万美元 [1] - 公司对外投资了1家企业,参与招投标项目53次 [1] - 公司拥有专利信息5,000条,以及行政许可225个 [1]

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